据 TheElec报道 ，而美光仅使用了 1 层 。目前三星电子在 1c DRAM 上共运用了 6~7 个 EUV 层 ，
值得注意的是 ，在无机光刻胶领域处于领先地位；而 MOR 被视为先进芯片光刻的化学放大光刻胶（CAR）的未来发展方向 。
此外，其中一层将采用 MOR 技术进行绘制 。Sn（基）氧化物光刻胶的使用将有助于提升下一代 DRAM 的性能及降低成本 。
近日，同时 ，
TheElec 进一步指出，自 2022 年起，越来越多的企业如韩国 SK 海力士和三星电子正积极投身于 DRAM微型化创新以及新材料研发。SK Hynix 已决定在其第 6 带（即 1c 工艺 ，
据悉 ，SK Hynix 所生产的 1c DRAM 包含五个极紫外（EUV）层，三星电子也有意采用此类无机 PR 材料 。SK Hynix 曾表示 ，这是 MOR 首次应用于 DRAM 大规模生产 。Inpria 是日本化学公司JSR 的子公司 ，