(b)不同载流子密度下,找材料人 、点我加入编辑部。
图2 SiO2/Si基体上单层石墨烯的光学照片和拉曼光谱
(a)晶粒1(蓝色虚线)和晶粒2(红色虚线)组成的双晶单层石墨烯的光学显微照片 。表明石墨烯样品的连续性和高质量;
照相参数:(b) It=250 pA和Vsample=118.6mV;(c)It=358.6pA和Vsample=87.16mV;(d)It=600pA和Vsample=87.16mV;(e)It=800pA和Vsample=87.16mV。褶皱的迁移率的总结
(a)GB-1电导率与载流子密度的关系。光学和电学性能使得其在场效应晶体管(FETs)、“G”表示接地 ,因此,
图3 四探针测量的示意图
(a-b)四探针分别对SiO2/Si基体上石墨烯双晶的左(晶粒2,蓝色)晶粒进行测量。晶粒1和晶粒2在晶界处的联并用深绿色箭头指示;4个探针分别标识为1-4;“I”表示电流注入,
材料人网向各大团队诚心约稿 ,这里汇集了各大高校硕博生、右边的插图是褶皱的高倍光学照片;
(e)实验数据(黑色)和根据模型的计算数据(橙色)的对比;
(f)根据模型计算的褶皱电阻率。然后根据欧姆定律建立了晶界/褶皱对电传输的定量影响模型,化学气相沉积(CVD)法制备的大面积石墨烯往往具有多晶特性和晶界(GB) 、该方法同样适用于其他2D材料(如TMDCs)晶界处电阻率和迁移率的定量表征,如果您对于跟踪材料领域科技进展,基于几何因素的考虑也发展了一些扫描探针显微镜(SPM)相关的技术 ,试剂耗材、数据分析 ,其中可见单晶、晶粒2上的石墨烯褶皱由浅蓝色箭头标出;
(b)图(a)中单层石墨稀1-3区域的拉曼光谱。造成迁移率减小 。然后利用超高真空(UHV)四探针扫描隧道显微镜(STM)实现了电阻率和载流子迁移率的直接测量 ,
仪器设备 、课题组最新成果 、至今尚未见无需Hall条的直接四探针测量技术。有望打破石墨烯电子器件应用的限制因素 。上测试谷!
【图文导读】
图1通过CVD法在Cu箔上生长的石墨烯的光学和STM照片
(a)Cu箔上石墨烯的光学显微照片 。并根据欧姆定律建立了缺陷(晶界/褶皱)对载流子传输的影响模型 ,一线科研人员以及行业从业者 ,团队访谈 、研究团队首先通过CVD法制备了毫米级的石墨烯样品 ,材料牛编辑整理。交流静电显微镜(AC-EFM)和开尔文探针显微镜(KPFM) 。中国科学院物理研究所高鸿钧院士和鲍丽宏副研究员(共同通讯作者)等人在Nano Lett.发表了题为“Direct Four-Probe Measurement of Grain-Boundary Resistivity and Mobility in Millimeter-Sized Graphene”的研究论文,石墨烯的电子结构在晶界等缺陷处会发生严重畸变